《KBTEM-OMO》
开放式股份公司
 
无掩膜版光刻

 

      

  • 设计标准:1.0.,06,0.35微米
  • 晶圆-掩膜版快速切换
  • 晶圆直径:Ø300, 200, 150, 100毫米

 

掩膜版图形生成和检查设备

    无掩膜版光刻
    图形制作
    掩膜版检查
    掩膜版修复

半导体晶圆上图形生成和检查设备