《KBTEM-OMO》
开放式股份公司
 
图形制作

 

      

  • 设计标准: 130, 90 nm范围:紫外光,深紫外光
  • 多路激光制作图形
  • 移相掩膜版
  • 直接制作图形
  • 16/32-光束架构

 

掩膜版图形生成和检查设备

    无掩膜版光刻
    图形制作
    掩膜版检查
    掩膜版修复

半导体晶圆上图形生成和检查设备