《KBTEM-OMO》
开放式股份公司
 
掩膜版检查

 

      

  • 设计标准:130,90纳米
  • 尺寸像素: 0.25, 0.15, 0.065微米
  • 检测方法:芯片到数据库,芯片到芯片
  • 高性能

 

掩膜版图形生成和检查设备

    无掩膜版光刻
    图形制作
    掩膜版检查
    掩膜版修复

半导体晶圆上图形生成和检查设备